李炳睿2016.09.24外延制作工艺外延的分类外延工艺外延技术的分类外延制作工艺之液相外延外延制作工艺之液相外延外延制作工艺之液相外延外延制作工艺之液相外延外延制作工艺之气相外延外延制作工艺之物理气相沉积真空蒸镀仪器溅射原理图溅射淀积外延制作工艺之化学气相淀积外延制作工艺之化学气相淀积的优缺点化学气相外延设备分子束外延20主要用途：用于生长光学晶体、铁电体、铁磁体、超导体和有机化合物薄膜材料，尤其适用于生长高熔点、多元素及含有气体元素的复杂层状超晶格薄膜材料。设备组成：系统由真空腔室(外延室、进样室)、样品传递机构、样品架、旋转靶台、真空排气、真空测量、电器控制、配气、计算机控制等各部分组成。外延室：超高真空环境下完成材料外延生长进样室：可快速进样，并保证外延室超高真空环境电器控制系统：精确控制温度、转速、位移差分高能电子衍射仪：可原位监测生长过程CCD成像：观察衍射光点图像、强度变化，采集数据，储存，打印气体电离系统：专利技术设计，保证特真空下工作需求四极质谱仪：系统检漏或残气分析脉冲准分子激光器：激光束扫描系统：专利技术设计，灵活设定激光束扫描轨迹计算机控制系统：自动控制加热，旋转，位移，激光束扫描ThankYou