本文格式为Word版，下载可任意编辑第PAGE\*MERGEFORMAT5页共NUMPAGES\*MERGEFORMAT5页TFTLCD行业废气处置研究薄膜晶体管液晶显示器（ThinFilmTransistorLiquidCrystalDisplay，TFTLCD），近几年在手机、电脑、电视、平板等行业广泛应用。TFTLCD生产工艺流程主要包括阵列（Array）、彩膜（ColorFilter，CF）、成盒（Cell）、模块（Module）四部分。Array、CF、Cell是排放气体污染物的主要环节，目前TFTLCD行业废气污染物排放采用《大气污染物排放标准》（GB16297—1996）和《恶臭污染物排放标准》（GB14554—1993），而这两个标准都已发布20多年，已严重滞后。20XX年生态环境部发布了《电子工业污染排放标准》第二次征求意见稿[2]，对TFTLCD行业各项污染物的排放值进行了规定，相比于目前所采用的标准，废气中的污染物排放值要严格数倍不等，对于适应了近20年的低标准运行的TFTLCD行业来说是一次挑战。目前TFTLCD废气处置研究文献较少，本文对某TFTLCD企业废气处置现状进行研究，分析TFTLCD行业目前废气处置技术所排放的污染物浓度与新标准之间的差距，为迎接新标准做好准备。1背景介绍1.1行业发展现状一直以来，全球液晶面板产业由三星、LG、夏普、友达、奇美五大巨头控制，近年来，显示行业在智能手机、平板电脑等消费类电子产品的推动下，产业规模持续扩大，国内液晶面板行业抓住机遇，突破技术封锁，快速发展，并且从TFTLCD调整产能投向OLED（有机发光二极管，OrganicLightEmittingDiode）。2021年，国内显示面板产线（量产+在建+规划）共21条，而截至20XX年10月统计，中国内地已建和在建的TFTLCD和OLED产线共有51条，共20家企业（见表1），总投资额达到12332亿元人民币。另外还有维信诺和群显规划建设OLED产线2条，华锐光电规划建设TFTLCD产线1条。1.2工艺简介Array生产车间负责阵列基板的生产，包括玻璃基板清洗、化学气相沉积、溅射、光刻、刻蚀、剥离等工序。Array工艺使用外购的专用玻璃基板，充分清洗后在其清洁干净的表面上通过化学气相沉积（CVD）的方法形成半导体膜或绝缘膜，通过溅射镀膜的方法形成金属膜。然后对栅电极及引线、有源层孤岛、源漏电极及引线、接触过孔、像素电极，经光刻胶涂敷、光刻胶曝光、显影等光刻工艺并经湿法刻蚀、干法刻蚀后，剥离掉多余的光刻胶，经热处理把半导体特性作均一化处理后即做成阵列玻璃基板。Array工艺中使用大量的化学品和特气，产生大量VOCs和废气，是整个生产过程中污染物的重要来源。CF是TFTLCD的重要组成部分，CF的质量直接影响TFTLCD性能。CF基本结构是由玻璃基板（GlassSubstrate）、黑色矩阵（BlackMatrix）、彩色层（ColorLayer）、保护层（OverCoat）及ITO导电膜组成。Cell生产车间负责制屏工序，即负责配向膜（PI）涂敷、固化、摩擦、封框胶及导通材涂布、液晶滴下、紫外及热固化、切割、磨边、测试等各工序的生产。Module车间负责模块的生产，包括偏光片贴敷、TCP焊接、PCB焊接、焊接检查、老化、返修、自动包装等工序。2废气排放对某TFTLCD工厂进行研究，根据各生产环节，所产生的废气主要有酸性废气、碱性废气、有毒废气、有机废气以及一般工业排气，详细记录见表2。3处置结果及讨论根据表2，将TFTLCD排放的废气分为酸、碱、有毒、有机共四个系统。3.1酸、碱性废气处置结果酸、碱性废气处理系统（见图1）是通过添加化学品到各洗涤塔中，通过喷淋水泵进行循环，利用填料增加废气与循环液的接触面积，达到酸碱中和，实现废气达标排放。碱排洗涤塔，通过添加50%H2SO4去除氨等主要碱性废气，氨的去除效率可达90%以上。酸排洗涤塔，通过添加30%NaOH、12%Na2S及10%的NaClO2去除酸性废气。该系统氮氧化物的总去除效率可达65%、氯化氢的总去除效率可达90%、硫酸的总去除效率可达94%、硝酸的总去除效率可达94%、磷酸总去除率可达99%酸、碱性废气喷淋洗涤塔的溶液循环使用并定期排放，全部纳入废水处理站含氟废水处理系统进行处理。对酸排中的氮氧化物、氯化氢、硫酸雾以及碱排口中的氨进行检测（表3是检测值），碱排放口中氨的12个检测数据中，9次未检测出氨，检测值中，最大值2.7mg/m3，最小值0.7mg/m3。酸、碱性废气处置后排放值可以满足《大气污染物排放标准》（GB16297—1996）中表2的二级标准和《恶臭污染物排放标准》（GB14554—1993）中表2的标准要求。3.2有