真空設備維護與保養目录月球一.几个镀膜参数分析1.1溅射率与离子入射角的关系1.2沉积速率工作气压的关系1.3温度溅射时靶始终处于高能粒子的轰击中,粒子入射到靶后﹐1%的能量被交给了溅射出来的原子,其中75%的能量使靶加热.其余消耗在次级电子轰击工件等.直接冷却---水直接通到背板背面.间接冷却---水通入靶座,靠靶与背板﹑靶座的良好接触来冷却.控制措施﹕冷却水的温度和流量必须严格控制,机器应设置相应的报警系统.嚴禁無水進行鍍膜作業.靶应设置温度感应装置,超过设定温度,机器自动停止溅射.Eg:VeecoIonmilling工件冷却方式蒸发镀膜,温度越高,蒸发速率越快.一定程度上,提高基片温度,可提高附着力.卷绕式蒸发镀膜机,对于经得住高温的材料,辊筒采用水冷即可,否则,得单独用制冷机冷缺.基片温度直接影响膜层的生长及特性.如:淀积钽膜时,基片温度﹤700℃时,钽膜呈四方晶格;﹥700℃时,钽膜呈体心立方晶格.反应离子镀,基片加热温度低,由于电离增加了反应物活性,故可在较低的温度下获得附着性能良好的碳化物,氮化物.若采用CVD,要加热到本基1000℃左右.作ITO,基片要加热到450~550℃结论:是否加热或冷缺由实际情况而定.1.4功率与膜厚的关系结论：DCPower功率越大,,薄膜越厚,透过率越小;镀膜时间越长,薄膜越厚,透过率越小.1.5基片偏压对薄膜的影响01.6反应气体分压影响膜的特性01.7磁控溅射的优点100二.常见故障与处理2.2真空镀膜常见的失效模式三.定期维护3.2Chamber的定期维护PM3.3防护板的喷砂处理3.4维护保养计划四.配件管理HappyMid-autumn!HappyNationalDay!