光敏高分子材料第六章◆如果吸光后发生化学变化，导致光聚合、光交联、光降解反应，高分子材料的溶解性发生变化，可制备什么？◆如果发生材料外观尺寸的变化，则形成光力学变化材料。与高分子光敏材料有关的光化学反应有光交联（聚合）反应、光降解反应和光异构化反应。这些反应都可以使分子吸收光能后发生能量转移，产生化学反应。特别使用于无色或浅色聚合物材料。第二节光敏涂料和光敏胶9、高分子非线性光学材料：三、高分子光稳定剂的种类与应用第三节高分子光稳定剂电子-空穴对解离的比率也称为感度（G）。2）彻段光老化链式反应的进行路线，使其聚合物主链不产生断裂。具有粘接力强，耐磨等特点。由于绝大多数多环芳烃和杂芳烃都有较高的摩尔吸光系数和量子效率，一次可选原料非常多。行化学腐蚀，可以达到保留或除去的目的。甲基丙烯酸甲酯-对甲氧苯基异丙基酮共聚物，波长范围220~360nm。常用的负性抗蚀剂（光刻胶）合成一般环氧化合物和多元醇缩聚而成。3、聚氨酯：4、聚醚：三、高分子光稳定剂的种类与应用光致变色材料广泛应用于护目镜，调节光线的玻璃，建筑装饰材料等等。4、高分子荧光或夜光材料：光照下，吸收光能以荧光或磷光的形式发出的高分子材料。5、高分子光催化剂：吸收光能后能，把光能转变为化学能的装置，称为光能转换装置，其中本身不直接进行光能转换，但能够促进其它物质转换作用的高分子称为高分子光催化剂。6、光能转换聚合物：吸收太阳能，并把太阳能转变为热能，电能或化学能等的一类高分子。7、光导电聚合物：光照的前提下，外加电压时，导电性能显著变化的高分子化合物。8、光致变色高分子材料：9、高分子非线性光学材料：10、高分子光力学材料：光敏高分子的定义？特点：与普通涂料比较，因为不用大量溶剂挥发，避免环境污染。固化时间短，涂层在粉刷后进行交联等光化学反应，则可以得到交联度高，机械强度大的涂层。光敏涂料添加剂：交联剂，稀释剂，光敏剂或光引发剂，阻聚集和调色剂等。分子量要求一般为1000—5000。是低聚合物。水性聚氨酯防水涂料(WPU)产品无毒无味，具有良好的粘结和不透水性，对砂浆水泥基石面和石材，金属制品都有很强的粘附力，产品的化学性质稳定，能长期经受日光的照射，强度高，延伸率大，弹性好，防水效果好。目前光敏涂料除多用于建筑材料（包括木材），金属材料等的涂料外，还用于液晶显示器以及电子元件的封装等等。2。不饱和聚酯具有粘接力强，耐磨等特点。但是，紫外光的作用下颜色发生变化（变黄）。一般用含羟基的丙烯酸（或甲基丙烯酸）与多元异氰酸酯反应得到预聚合体。是一种低粘度涂料。价格低。合成一般环氧化合物和多元醇缩聚而成。如：按性能分类，可分为正胶和负胶。正胶：经过光照后溶解性增大。负胶：经过光照后溶解性降低。主要用途：在集成电路制造中，半导体氧化层中许多地方要除去，部分地方要留下。一般采用化学腐蚀法。这样根据事先设计好的图按，利用适当的光敏高分子胶可以保护或破坏被涂半导体层进行化学腐蚀，可以达到保留或除去的目的。这种技术目前在电子工业中起着重要的作用。光刻胶的作用原理如下：1.常用的负性抗蚀剂（光刻胶）除以上的聚合物以外，还有聚乙烯氧肉桂酸乙酯，聚对亚苯基二丙烯酸酯，聚乙烯醇肉桂叉乙酸酯等等。除均聚化合物外，还有共聚光刻胶，如：二乙烯苯，N,N-亚甲基双丙烯酰胺，双丙烯酸乙二醇酯和安息香酶酯等配制二成的负性光刻胶等。2.正性抗蚀剂（光刻胶）2.正性抗蚀剂（光刻胶）早期应用的正胶为：连接有邻重氮萘醌结构的线形酚醛树脂。认为感光后侧链上的邻重氮萘醌脱落，生成在碱性溶液中可溶的黄酸基化合物。近年发展了深紫外光致抗蚀剂。其主要特点是，利用能量较高深紫外光，使比较稳定的一些键发生断裂，提高溶解性的变化。近年发展了深紫外光致抗蚀剂。其主要特点是，利用能量较高深紫外光，使比较稳定的一些键发生断裂，提高溶解性的变化甲基丙烯酸甲酯-对甲氧苯基异丙基酮共聚物，波长范围220~360nm。因为紫外光扩散时，有光的绕射，则一般使用波长在350~450nm的光源，只能加工成线宽为1微米的集成电路。为了得到微米以下线宽的集成电路，最近使用能量更高的辐射源，如：电子和X-射线等。由于它们能量高，高分子中不需要有发色团也能够较稳定的化学键断裂，得到更显著的溶解性差别，并且能够得到准确度更高的集成电路刻线。第二节小结第三节高分子光稳定剂高分子材料的光化学老化比较复杂，影响因素也较多，下面只讨论较典型一些光化学老化过程以及一些光化学稳定剂。太阳光是影响光老化的主要因素，太阳光经大气层滤过到地面的波长范围为290-3000nm之间。太阳光主要包含光线组成为：紫外光10%，可见光50%，红外光40%。其中紫外光虽然占的比列不大，但是能量较高，则对高分子老化影响最大